問26：産業財産権の存続期間の組み合わせとして正しいものはどれか。
- A：特許は25年、実用新案は20年、意匠は10年、商標は登録日から20年
- B：すべて出願日から20年である
- C：特許は出願日から20年、実用新案は10年、意匠は25年、商標は登録日から10年(更新可)
【第26問：正解と解説】
正解：C
【解説】
・A：各権利の存続期間が入れ替わっており、正しい年数と一致しないため誤り。
・B：各権利の存続期間は異なるため、すべて20年とするのは誤り。
・C：正解はCです。特許は出願日から20年、実用新案は10年、意匠は25年、商標は登録日から10年(更新可)。【試験対策】存続期間の対比は本試験頻出の総整理論点である。
関連過去問：R3,問9
問27：意匠権の発生についての記述として正しいものはどれか。
- A：創作した時点で自動的に発生する
- B：出願だけでは発生せず、審査を経て設定登録されることで発生する
- C：出願だけで当然に発生する
【第27問：正解と解説】
正解：B
【解説】
・A：創作時に自動的に発生するのは著作権であり、登録主義の意匠権とは異なるため誤り。
・B：正解はBです。意匠権は出願だけでは発生せず審査を経て設定登録されることで発生する(登録主義・先願主義)。【試験対策】無方式主義の著作権と区別する。
・C：意匠権は設定登録により発生するため、出願だけで当然に発生するとするのは誤り。
関連過去問：R3,問9
問28：物品の一部分について意匠登録を受ける制度を何というか。
- A：秘密意匠
- B：関連意匠
- C：部分意匠
【第28問：正解と解説】
正解：C
【解説】
・A：秘密意匠は登録後一定期間内容を公開しない制度であり、物品の一部分を保護する部分意匠とは異なるため誤り。
・B：関連意匠は自己の類似意匠を関連付ける制度であり、物品の一部分を保護する部分意匠とは異なるため誤り。
・C：正解はCです。部分意匠は物品の一部分について登録を受ける制度。【試験対策】秘密意匠(内容を非公開)・関連意匠(自己の類似意匠)と区別する。
関連過去問：R3,問9
問29：自己の類似する意匠を関連付けて登録する制度を何というか。
- A：関連意匠
- B：部分意匠
- C：組物の意匠
【第29問：正解と解説】
正解：A
【解説】
・A：正解はAです。関連意匠は自己の類似意匠を関連付けて登録する制度で、権利期間は基礎意匠の出願日から25年で終了する。【試験対策】部分意匠・組物の意匠と区別する。
・B：部分意匠は物品の一部分を保護する制度であり、自己の類似意匠を関連付ける関連意匠とは異なるため誤り。
・C：組物の意匠は複数物品の統一美感の意匠であり、自己の類似意匠を関連付ける関連意匠とは異なるため誤り。
関連過去問：R3,問9
問30：パリ条約の優先権制度の内容として正しいものはどれか。
- A：最初の出願で全同盟国に自動的に権利が成立する
- B：出願日にかかわらず先に登録した者が権利を得る
- C：最初の出願を基礎に一定期間内の他国出願について最初の出願日を基準に新規性等を判断できる
【第30問：正解と解説】
正解：C
【解説】
・A：優先権制度は他国出願で最初の出願日を基準にできる制度であり、全同盟国に自動的に権利が成立するわけではないため誤り。
・B：優先権制度は最初の出願日を基準とする制度であり、先に登録した者が権利を得るとするのは制度の趣旨と異なるため誤り。
・C：正解はCです。優先権制度は最初の出願を基礎に一定期間内の他国出願について最初の出願日を基準に新規性等を判断できる制度。【試験対策】他国出願の際の日付の遡及効を押さえる。
関連過去問：R7,問13
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